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CVD設備常見維護操作說明

CVD設備常見維護操作說明

發布時間:2022-11-29 瀏覽次數:0
為了使CVD設備長期正常運轉,除了要求操作者正確地操作、使用設備外,采取一些有效的方法維護好設備,是保護好CVD設備正常運轉的關鍵,為此可采取下列措施:  

(l)盡可能地讓CVD設備的真空系統處于真空狀態。CVD設備按淀積工藝要求,所用的工藝氣體及反應生成副產物,一般都具有強烈的腐蝕性。如果

Si3N4薄膜淀積完畢后不及時將反應殘余氣體抽盡,則很可能腐蝕氣路接口、波紋管、真空計、真空泵等。所以,在Si3N4薄膜淀積完畢后,盡量延長真空泵的抽氣時間,以便盡可能地抽除殘余氣體。遇到幾天不用時,開啟一次真空泵抽一次,以提高設備使用完好率。

(2)及時充裝氮氣。在作完工藝后,爐管內石英舟上裝有淀積好的硅片,一定要將其保存在充滿氮氣的環境內,以防止氧化、腐蝕,這樣可以更好的保存。

(3)定期更換真空泵油。雖然所使用的真空系統安裝了真空泵油過濾器,能保持較長時間的泵油清潔。但對于象SiH2C12+NH3這樣的反應體系,由于反應時在爐尾和爐口兩端生成了副產物NH4CI白色粉末,NH4CI在反應管后部的波紋管、真空管壁上淀積是相當嚴重的,它和HCI等有害雜質隨時有被抽至真空泵的危險。這些顆粒,不斷少量地進人真空泵,使泵油變稠,堵塞泵油過濾系統,影響設備的正常運轉。所以必須定期更換真空泵油。

(4)定期檢修電磁閥。為了防止真空泵油返回真空管道內,在真空泵上安裝了電磁閥,該電磁閥常見的故障是,電磁閥內由于有少量的NH4CI粉末存在,使電磁閥內的O型密封圈的密封性能降低,導致真空系統存在著慢泄漏,整個設備的真空系統在停機后不能保持真空狀態,只有定期檢修電磁閥,清洗后更換電磁閥內的O型密封圈,才能在薄膜淀積完畢后使CVD設備的真空系統處于真空狀態。

(5)定期清洗石英管。在淀積過程中石英管和石英舟上都會淀積上一層薄膜,在每次工藝結束后,都應將石英舟在原位適當移動一下,以免石英舟和石英管沾附。隨著工藝生產的增多,在石英管和石英舟上淀積的薄膜越來越厚。在達到一定程度后,石英管出現了硅裂的現象,也使得整個石英管的承重加大,超過了其最大負載,一根石英管出現一定程度的下沉(原來兩根石英管處于同一水平面上)。從而導致石英舟上裝的硅片也跟著一起下沉,偏離了爐管中心位置,造成淀積的薄膜不均勻。因此,進行定期清洗才能保證工藝的穩定性和可重復性,從而保證產品質量

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