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1200 CVD設備

1200 CVD設備

1200 CVD設備

此款PT-T1200 CVD是一種管式爐,配備100mm直徑石英管、真空泵和五通道質量流量計氣體流動系統。 它可以混合1-5種氣體用于CVD或擴散。

產品介紹:
    此款PT-T1200 CVD是一種管式爐,配備100mm直徑石英管、真空泵和五通道質量流量計氣體流動系統。 它可以混合1-5種氣體用于CVD或擴散。
 
技術參數:
 
產品名稱
1200度CVD設備
型號 PT-T1200
第一部分:標準件
 
 
 
 
 
 
 
Tube Furnace
 

 
顯示 7”液晶觸摸屏
最高溫度 1200℃ 
工作溫度 ≤1100℃
升溫速率  0~10℃/min 
溫區長度 440mm
加熱元件 鉬電阻絲
熱電偶 K型
溫度控制精度 ±1℃
爐管 100 x 1000mm (OD x minimum L)
 材質:石英管
 
溫度控制 通過可控硅功率控制進行PID自動控制
加熱曲線 30 步可編程
真空法蘭 不銹鋼真空法蘭。
法蘭的一端有 1 個帶刺針閥,安裝有機械壓力表。
 
法蘭的另一端有一個帶倒鉤針閥的 KF25 端口

 
功率 220V, 50 Hz, 最大單相. 4KW
真空泵  旋片真空泵 極限真空 10-3 托。
管內的真空度約為 10-1 Torr。
(RM溫度和空管條件)
流量:2L/S
旋片真空泵將被設計成帶輪子的推車。 帶連接附件
包括數字真空計
質量流量計
帶液晶觸摸屏控制器

 
一個浮子流量計+五個精密質量流量計:
MFC 精度為:±1.5% F.S.
MFC 1 用于氮氣:氣體流量范圍為 0~100 sccm
氫氣用 MFC 2:氣體流量范圍 0~200 sccm
MFC 3 for methan : 氣體流量范圍為 0~300 sccm
氬氣用 MFC 4:氣體流量范圍 0~400 sccm
氧氣用 MFC 5:氣體流量范圍 0~500 sccm
 
一個氣體混合罐(僅適用于5 MFC)安裝在底殼上,4個不銹鋼針閥安裝在底殼左側,用于手動控制4種氣體混合。
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