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大口徑CVD管式爐

大口徑CVD管式爐

大口徑CVD管式爐

包括大范圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料、二維材料等,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。也可用于:真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。

產品介紹:
    PT-T1200大口徑CVD管式爐是一種具有60mm直徑石英管,真空泵和三通道質量流量計氣體流動系統的可拆分管式爐。 它可以混合1-3種氣體用于CVD或擴散。
產品用途:
   包括大范圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料、二維材料等,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。
也可用于:真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。
產品參數:
型號 PT-T1200-CVD
顯示 液晶顯示屏
第一部分
爐膛 分體式和上部可以打開
最高工作溫度 1100°C
加熱速率 建議:0?10℃/ min(最高20℃/ min)
加熱溫區 500mm
加熱元件 鉬電阻絲
溫度控制精度 ±1℃
爐管尺寸 外徑200mm X長度1200mm
供電電源 三相380V,50HZ
功率 20KW  (功率以實際設計為準)
溫度控制器 30段高精度數字可編程溫度控制器
第二部分混氣系統 七星華創
量程
MFC1 H2 0-200sccm 氫氣
MFC2 NH3 0-200sccm 氨氣 (D07-26C 即可,但是需要特殊要求耐氨的)
MFC3 SiH4 0-200sccm 硅烷(CS200A 硅烷專用流量計)
LCD觸摸屏
第三部分  電阻硅真空計
第四部分  射頻電源
更多規格可根據需求定制
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