PT-T1200大口徑CVD管式爐是一種具有60mm直徑石英管，真空泵和三通道質量流量計氣體流動系統的可拆分管式爐。 它可以混合1-3種氣體用于CVD或擴散。
產品用途：
包括大范圍的絕緣材料，以及大多數金屬材料和金屬合金材料、二維材料等，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結等實驗。
也可用于：真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。
產品參數：
| 型號 | PT-T1200-CVD |
| 顯示 | 液晶顯示屏 |
| 第一部分 | |
| 爐膛 | 分體式和上部可以打開 |
| 最高工作溫度 | 1100°C |
| 加熱速率 | 建議：0?10℃/ min（最高20℃/ min） |
| 加熱溫區 | 500mm |
| 加熱元件 | 鉬電阻絲 |
| 溫度控制精度 | ±1℃ |
| 爐管尺寸 | 外徑200mm X長度1200mm |
| 供電電源 | 三相380V，50HZ |
| 功率 | 20KW （功率以實際設計為準） |
| 溫度控制器 | 30段高精度數字可編程溫度控制器 |
| 第二部分混氣系統 七星華創 | |
| 量程 MFC1 H2 0-200sccm 氫氣 MFC2 NH3 0-200sccm 氨氣 (D07-26C 即可，但是需要特殊要求耐氨的) MFC3 SiH4 0-200sccm 硅烷（CS200A 硅烷專用流量計） |
LCD觸摸屏 |
| 第三部分 電阻硅真空計 | |
| 第四部分 射頻電源 | |
| 更多規格可根據需求定制 | |
